EDI vannbehandlingsanlegg for polysilisium

Et EDI-vannbehandlingsanlegg for polysilisium er vanligvis en del av et system med høy-renhet/ultraprent vann (HPW/UPW) som brukes til å levere vann med svært lite-ion til polysilisiumproduksjon og tilhørende verktøy. I polysilisiumanlegg brukes EDI oftest etter RO for kontinuerlig å polere vann til svært lav ledningsevne, deretter legges det til ytterligere poleringstrinn avhengig av hvor vannet brukes (prosess vs verktøy).

Vanlige vannbruk inkluderer:

• Kjemisk makeup-/fortynning(f.eks. syrer/alkalier, prosesskjemikalier)
• Rengjøring / skyllingav utstyr og noen deler
• Scrubbere(noen trenger høy renhet; noen kan bruke RO-permeat)
• Kjeltilførsel / dampsystemer(ofte RO-EDI eller RO-EDI + blandet seng)
• Kjølesløyfer(ofte RO eller myknet/filtrert vann, ikke alltid UPW)

Polysilisiumanlegg designer vanligvis to kvalitetshoder:

• UPW/HPWfor kritisk prosess og skylling
• RO-gjennomtrenger / myknerfor verktøy som kjøling av sminke, nedvasking, etc.

En vanlig, robust konfigurasjon ser slik ut:

1) Forbehandling (beskytt membraner, stabiliser fôret)

Råvann → Multimedia/Sandfilter → Aktivt kull (eller deklorering) → Mykner/antiskaleringsmiddeldosering → Patronfiltre (5 µm)

2) Avsalting + kontinuerlig avionisering

→ RO (ofte dobbelt-pass) → Avgasser (CO₂-fjerning, valgfritt, men vanlig) → EDI

3) Endelig polering (avhenger av nødvendig renhet)

For prosessvann med høy-renhet legger plantene ofte til:

→ UV (185/254 nm) → Mixed Bed Polermaskin (endelig "trim") → UF / endelige membranfiltre → Lagertank → Resirkulasjonssløyfe → Brukssted

• Kontinuerlig høy renhet (ingen harpiksutmattelsessyklus)
• Ingen syre/kaustisk regenerering (tryggere, lavere kjemisk håndtering)
• Stabil konduktivitet/resistivitet
• Lavere regenererende avløpsvann sammenlignet med tradisjonell ionebytte

Nøyaktige grenser avhenger av prosessen og kundespesifikasjonene, men typiske mål er:

For RO + EDI-produkt (før endelig polering)

• Konduktivitet:~0,05–0,2 µS/cm
• Resistivitet:~5–18 MΩ·cm (design-avhengig)

For "UPW/HPW" etter polering (hvis nødvendig)

• Resistivitet:ofte nær18,2 MΩ·cm
• Silika / bor:svært lavt (ppb-nivå der det er nødvendig)
• TOC:svært lavt (ppb-nivå der det er nødvendig)
• Partikler/bakterier:veldig lav (med UF + sluttfiltre + loop)

(Hvis du hovedsakelig bruker kjelemating og generell prosessfortynning, trenger du kanskje ikke hele UPW-poleringstoget.)

1. Silika- og borkontroll

Høyt silika kan begrense RO-gjenvinning og skitne membraner.

Bor er vanskeligere å fjerne; dobbel-pass RO og riktig pH-strategihjelp.

2. CO₂-avgassing forbedrer EDI

Høyt oppløst CO₂ øker EDI-belastningen og reduserer resistivitetsstabiliteten. En membranavgasser er vanlig.

3. Materialvalg

Etter EDI, bruk materialer med høy-renhet (ofte SS316L EP, PVDF/PFA/PP avhengig av spesifikasjoner). Unngå utvasking og korrosjon.

4. Løkkedesign betyr like mye som skrensen

Kontinuerlig resirkulering, minimalt med døde-bein, riktig tankventilasjonsfiltrering og desinfiseringsstrategi forhindrer kvalitetsavdrift.

5. Instrumentering & kontroll

Online: ledningsevne/resistivitet, pH, ORP (hvis brukt), strømning/trykk, temperatur

For UPW: TOC, silika, oppløst oksygen, partikkeltall (hvis nødvendig)

Hvis du deler disse 4 detaljene, kartlegger jeg den beste konfigurasjonen for et EDI-vannbehandlingsanlegg for polysilisium:

1. Råvannskilde + TDS, silika, bor (hvis kjent)
2. Nødvendig produktflyt (m³/time)
3. Sluttbruk: prosessfortynning/skylling vs UPW kritisk vs kjele
4. Enhver utslippsbegrensning (normal / begrenset / ZLD)

a. Vi gir full teknisk støtte og etter installasjon av utstyr.
b.Vi hjelper til med å lære opp operatør av systemet. Og detaljert bruksanvisning følger med.
c.7*24 timers telefonassistanse med teknisk støtte.
d.Vi leverer forbruksvarer og reservedeler på lang-sikt for kostpris.

Populære tags: edi vannbehandlingsanlegg for polysilisium, Kina edi vannbehandlingsanlegg for polysilisiumprodusenter, leverandører, fabrikk